Lớp phủ lắng đọng hơi vật lý là công nghệ xử lý bề mặt tiên tiến được sử dụng rộng rãi trên thế giới. Nguyên tắc làm việc của nó là sử dụng sự phóng khí để ion hóa một phần khí hoặc chất bay hơi trong điều kiện chân không, và lắng đọng chất bay hơi hoặc chất phản ứng của nó trên đế trong khi các ion khí hoặc ion chất bay hơi bắn phá. Hiện nay, công nghệ PVD được sử dụng rộng rãi nhất trên thị trường chủ yếu được chia thành ba loại: phún xạ magnetron, mạ ion đa hồ quang và lắng đọng hơi.

Phủ phún xạ Magnetron PVD

Nguyên tắc làm việc: các electron va chạm với các nguyên tử argon trong quá trình tăng tốc đến chất nền dưới tác dụng của điện trường, làm ion hóa một số lượng lớn các ion và electron argon, và các electron bay đến chất nền. Các ion argon tăng tốc quá trình bắn phá mục tiêu dưới tác động của điện trường, và một số lượng lớn các nguyên tử mục tiêu bị văng ra ngoài và lắng đọng trên bề mặt của lớp cơ sở để tạo thành một lớp màng.

Đặc điểm của lớp phủ phún xạ

(1) hạt nhỏ

Lớp phủ phún xạ có thể làm cho các hạt màng mịn, phù hợp với lớp phủ quang học

(2) tỷ lệ lắng đọng thấp

Lớp phủ phún xạ không phù hợp với lớp phủ công nghiệp vì tốc độ lắng đọng thấp và hiệu quả thấp

(3) lớp phủ đồng nhất

Lớp phủ phún xạ có các đặc tính của các hạt nhỏ và lắng đọng chậm, và lớp phủ có độ chính xác cao có thể đạt được với chế độ tải phù hợp

(4) lực liên kết cao

So với lớp phủ truyền thống, lớp phủ phún xạ có độ bám dính cao hơn với bề mặt

(5) quy trình phức tạp

Lớp phủ phún xạ yêu cầu cấu hình cao hơn

3 phương pháp phủ PVD chính là gì? 2

Lớp phủ ion đa hồ quang

Nguyên tắc làm việc: phương pháp phóng điện hồ quang được sử dụng để làm bay hơi trực tiếp kim loại trên mục tiêu catốt rắn. Vật liệu bay hơi là các ion của vật liệu cực âm phát ra từ điểm sáng của hồ quang cực âm, sau đó lắng đọng trên bề mặt của đế dưới dạng màng mỏng.

Bằng cách kết hợp phóng điện phát sáng, công nghệ plasma và bay hơi chân không, mạ ion không chỉ có thể cải thiện chất lượng phim mà còn mở rộng phạm vi ứng dụng của phim.

Đặc điểm của lớp phủ hồ quang

(1) hiệu quả sản xuất cao hơn

(2) năng lượng ion đơn lẻ của lớp phủ hồ quang có thể làm cho lớp phủ bám chắc trên bề mặt đế

(3) quy trình ổn định, có thể đạt được sự kiểm soát chính xác hơn trên lớp phủ composite3 phương pháp phủ PVD chính là gì? 3

3 phương pháp phủ PVD chính là gì? 4

lớp phủ lắng đọng hơi

Nguyên tắc làm việc: trong điều kiện chân không, vật liệu phủ (hoặc vật liệu màng) được làm bay hơi và khí hóa bằng phương pháp gia nhiệt và bay hơi nhất định, và các hạt bay lên bề mặt đế để tạo thành màng.

đặc tính của lớp phủ lắng đọng hơi

(1) quy trình đơn giản, công nghệ trưởng thành và ứng dụng rộng rãi

(2) nó không phù hợp với vật liệu có điểm nóng chảy cao và vật liệu có độ cứng thấp, và nó không phù hợp để sản xuất quy mô lớn vì thời gian phủ chậm

Hiệu suất của lớp phủ PVD

So với các công nghệ tăng cường bề mặt truyền thống, chẳng hạn như mạ điện, mạ điện phân và xử lý nhiệt hóa học, lớp phủ PVD có hiệu suất bám dính tốt, chất lượng lớp phủ tốt, nhiều loại vật liệu mạ và độ dày của màng là micron. Do đó, các tính chất vật lý và hóa học khác nhau của bề mặt phôi có thể được cải thiện mà không ảnh hưởng đến kích thước ban đầu của phôi. Ngoài việc mạ phi kim loại hoặc kim loại trên phôi kim loại, PVD cũng có thể được mạ kim loại hoặc phi kim loại trên phi kim loại, hoặc thậm chí là nhựa, cao su, thạch anh, gốm, v.v., để đạt được các chức năng chống mài mòn, giảm ma sát, chống ăn mòn, chống gỉ, chịu nhiệt và chống oxi hóa.

Theo nhiều thống kê, việc sử dụng hạt dao phủ PVD không chỉ giảm sử dụng chất tháo khuôn, chi phí nhân công và thời gian thay khuôn mà còn cải thiện đáng kể sản lượng và năng suất, mang đến giải pháp hiệu quả cho doanh nghiệp nhằm tăng hiệu quả và giảm chi phí, tiết kiệm chi phí năng lượng và giảm thiểu ô nhiễm.

Trả lời

Email của bạn sẽ không được hiển thị công khai. Các trường bắt buộc được đánh dấu *